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恭喜!顶级光刻机,进入中国!3月30日,积塔半导体在上海临港举行300mm车规半导体集成电路制造基地设备入场开工仪式,ASML光刻机入场。    图片   此次积塔半导体12英寸车规半导体生产基地入场的光刻机或为干式DUV光刻系统I-line、ArF系列。TWINSCAN XT:400L是ASML最新的i-line系统,分辨率低至220nm,适用于200mm和300mm晶圆生产。    TWINSCAN NXT:1470双级ArF系统,可以打印分辨率低至220nm的图案,被大多数逻辑和存储器客户

发表时间:2024-06-28 15:32

3月30日,积塔半导体在上海临港举行300mm车规半导体集成电路制造基地设备入场开工仪式,ASML光刻机入场。


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此次积塔半导体12英寸车规半导体生产基地入场的光刻机或为干式DUV光刻系统I-line、ArF系列。TWINSCAN XT:400L是ASML最新的i-line系统,分辨率低至220nm,适用于200mm和300mm晶圆生产。


TWINSCAN NXT:1470双级ArF系统,可以打印分辨率低至220nm的图案,被大多数逻辑和存储器客户所采用,并已被插入到大批量制造工艺中,用于200mm和300mm晶圆生产,实现每小时330个晶圆的生产率。


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积塔半导体于2017年在上海临港注册成立,专注于半导体集成电路芯片特色工艺的研发和生产制造,已建成具有自主知识产权的电源管理芯片(PMIC)、控制器(Controller)、功率器件(IGBT、SGT、FRD、TVS等)、碳化硅器件(JBS、MOSFET)、微机电系统(MEMS)等特色工艺平台,产品广泛服务于汽车电子、工业控制、电源管理、智能终端,乃至轨道交通、智能电网等高端应用市场。


产能方面,积塔半导体目前在上海临港新片区和徐汇区建有两个厂区,已建和在建产能共计30万片/月(折合8吋计算),其中6吋7万片/月、8吋11万片/月、12吋5万片/月、碳化硅3万片/月,为功率器件、汽车电子等核心芯片提供服务。


同时,积塔半导体也专注于功率模组及车规级芯片创芯整合发展,在2023年期间先后与华大九天、吉利科技达成合作,作为大股东的华大九天持股比例达到了约37.6%。此外,在融资方面,积塔半导体已先后完成5轮融资